离子源刻蚀(IonSource刻蚀)是一种用于微电子制造过程中的关键技术,用于控制薄膜厚度、成核和生长。在这种技术中,离子源产生的离子被用于刻蚀或退火薄膜。离子源刻蚀基体的压强是一个关键因素,它影响到...